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真空技術在薄膜涂層中的作用
日期:2025-10-10 17:54
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摘要:
真空技術對于這些工藝至關重要,因為這些材料的蒸汽需要不受阻礙且無雜質地流入低壓環境并流到基板上,或者僅僅是為了實現等離子體的工藝條件。因此,生成真空大氣和監測壓力對于這些工藝至關重要。
EDWARDS 多年來一直處于薄膜行業的前沿,不斷開發各種真空解決方案 - 初級真空泵系統、二級真空泵、 真空計 、殘 余氣體 分析儀 - 以滿足各種涂層工藝的嚴格要求。無論是管理玻璃和太陽能鍍膜工藝所要求的快速泵送周期,還是管理 ALD 或 LPE 應用中的惡劣工藝,我們都有優化的真空解決方案來滿足您的要求。
真空技術對于這些工藝至關重要,因為這些材料的蒸汽需要不受阻礙且無雜質地流入低壓環境并流到基板上,或者僅僅是為了實現等離子體的工藝條件。因此,生成真空大氣和監測壓力對于這些工藝至關重要。
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